Efecto del sesgo de pulso sobre la composición y la estructura de las películas de Tialn de recubrimiento de iones multiac arco

- Jul 13, 2018-


1. Con el aumento del sesgo de pulso y el ciclo de trabajo, las partículas grandes en la superficie se reducen significativamente, y el efecto de la topografía de la superficie es mejor.

 

2. Cuando el valor máximo de la tensión de polarización aumenta, la tasa de deposición se reduce; cuando se incrementa la relación de trabajo, la tasa de deposición primero aumenta y luego disminuye, y cuando la relación de trabajo es del 40%, la tasa de deposición es la más grande.

 

3. El porcentaje atómico de Al se ve afectado principalmente por el valor máximo del sesgo de pulso y disminuye con el aumento de la tensión de polarización. El porcentaje de átomos de Ti se ve afectado principalmente por el ciclo de trabajo y disminuye con el aumento del ciclo de trabajo.

 

4. Con el aumento de la polarización del pulso, la dureza de la película aumenta primero y luego disminuye. Con el aumento del ciclo de trabajo, la dureza de la película aumenta primero y luego disminuye, y hay cambios obvios.