¿Cómo resolver el problema de la falta de uniformidad de la película en Magnetron Sputtering?

- Jul 07, 2018-


1. Asegure la uniformidad y dirección del campo magnético tanto como sea posible para formar un campo magnético espacial relativamente uniforme.

 

2. Asegure la uniformidad de las presiones superior e inferior, la cámara de vacío debe diseñarse teniendo en cuenta la posición de instalación de la bomba de vacío, el modo de admisión de gas de proceso y la disposición de los tubos de gas de proceso en la cavidad.

 

3. Como ni el campo magnético ni la presión de aire son absolutamente ideales, la desigualdad de la presión de aire puede utilizarse para compensar el campo magnético desigual y uniformizar la película final.

 

4. La distancia entre el objetivo y el sustrato también es un factor importante que afecta la uniformidad de la película.