Nuevo progreso de la tecnología de limpieza por ultrasonidos

- May 09, 2018-


1. Limpieza ultrasónica de alta frecuencia


Para partículas de suciedad ultrafinas tan pequeñas como unos pocos micrómetros en la superficie de una oblea de silicio, los limpiadores ultrasónicos convencionales no pueden hacer nada, incluso si aumentar la densidad de potencia no ayuda. Recientemente, se desarrolló una tecnología de limpieza ultrasónica de alta frecuencia con nivel de megahercios. Debido a la alta frecuencia, el efecto de cavitación ya no es efectivo. Por lo tanto, la clave de la limpieza no es la burbuja de aire, que es la acción de fregado de la onda de presión de alta frecuencia, y la tasa de eliminación de la suciedad es cercana al 100%. La limpieza de alta frecuencia se ha desarrollado rápidamente y se utiliza principalmente para la limpieza de suciedad en circuitos integrados de gran escala, así como para la limpieza de suciedad especial como obleas de silicio, cerámica y fotomáscaras.


2. Limpieza enfocada


Para la limpieza de objetos microporosos tales como hileras y filtros en la industria textil, el efecto de limpieza por ultrasonidos convencional es muy insatisfactorio y la intensidad del sonido no cumple con los requisitos, mientras que se usa la limpieza ultrasónica enfocada al escaneo mecánico y la contaminación en el microporo de la hilera es muy obvio. La limpieza enfocada requiere una alta intensidad de sonido, y la frecuencia actualmente seleccionada es principalmente de baja frecuencia. Comúnmente utilizado 20kHz y 15kHz dos tipos de frecuencia, y la frecuencia del individuo también es 28kHz, su potencia eléctrica es generalmente 500-700W en la situación de onda continua, la condición de trabajo del pulso gap, la potencia puede ser mayor.


3. Limpieza de frecuencia múltiple


En un tanque de limpieza, se instalan dos o más transductores con diferentes frecuencias, y múltiples generadores impulsan respectivamente transductores de frecuencias respectivas. Cuando la frecuencia de operación de la lavadora es alta, la fuerza de cavitación del líquido es baja y la densidad de cavitación es alta, pero ocurre lo contrario cuando la frecuencia de operación es baja. La onda ultrasónica de baja frecuencia tiene alta intensidad y es favorable para limpiar la superficie del objeto. La densidad de cavitación ultrasónica de alta frecuencia es alta y la onda de choque puede penetrar a través de estructuras finas como ranuras, ranuras y orificios profundos. Al mismo tiempo, se supera el problema de la limpieza desigual ocasionada por el campo de onda estacionaria de limpieza de frecuencia única.


4. Limpieza de frecuencia de barrido y salto de frecuencia


La frecuencia de barrido y la limpieza de salto de frecuencia están destinadas a mejorar la estructura del campo de sonido en la ranura. El primero resuelve el campo de onda estacionaria irregular en la ranura y hace que la limpieza sea uniforme, mientras que el salto de frecuencia y la frecuencia múltiple tienen en cuenta la limpieza de alta y baja frecuencia. La diferencia es que el salto de frecuencia utiliza un transductor y un generador, y el transductor mismo tiene dos frecuencias resonantes.