El principio básico de la capa de pulverización para la máquina de recubrimiento por vacío

- May 10, 2018-


Cuando las partículas de alta energía bombardean la superficie de un sólido, los átomos y las moléculas en la superficie del sólido intercambian energía con estas partículas de alta energía y salpican desde la superficie sólida. Este fenómeno se llama pulverización. Dado que los átomos pulverizados tienen una cierta cantidad de energía, se pueden volver a aglomerar para formar una película delgada sobre una superficie sólida, que se llama deposición de película de pulverización catódica o recubrimiento de pulverización a vacío.


El recubrimiento por pulverización se puede utilizar como blanco de pulverización catódica para varios metales, semiconductores, aislantes, mezclas, compuestos y otros materiales. No solo se pueden preparar películas finas y películas de aleación homogénea y películas finas superconductoras complejas similares a los materiales objetivo. También se utiliza para preparar películas compuestas que son completamente diferentes del objetivo, como óxidos, helio y siliciuros, y tiene una amplia gama de usos. Además, el recubrimiento por pulverización catódica también tiene las características de una buena adhesión entre la capa de película y el sustrato, alta densidad de la capa de película, menos picaduras, alta pureza, controlabilidad del espesor de la película y buena repetibilidad.


Hay dos formas de formar partículas de alta energía: una es el plasma generado por la descarga luminiscente del cátodo, llamada fuente de iones incorporada; el otro es el haz de iones de alta energía que se extrae de una fuente de iones separada y bombardea el objetivo colocado en un alto vacío para generar deposición electrónica y deposición de película delgada. Se llama deposición del haz de iones, también llamada pulverización iónica del haz de iones. Necesita una fuente de iones Kauffman externa.


En el recubrimiento por pulverización catódica, el recubrimiento por pulverización se forma por descarga de brillo al vacío, acelerando los iones positivos para bombardear la superficie del objetivo, causando que las partículas pulverizadas en la superficie del objetivo se depositen en el sustrato para formar una película delgada.


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