Principio de funcionamiento del revestimiento al vacío

- May 13, 2020-

Principio de funcionamiento del revestimiento al vacío: tecnología de deposición física de vapor (deposición física de vapor, PVD) bajo la condición de vacío, dicho por método físico, la fuente del material, la gasificación de la superficie sólida o líquida en átomos gaseosos, moléculas o iones de ionización parcial , y a través del proceso de gas a baja presión (o plasma), en la superficie de la matriz, la deposición tiene algunas características especiales de la tecnología de película delgada.

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