Objetivo multiarco

Objetivo multiarco

Objetivos de arco múltiple de alta calidad IKS proporciona objetivos de arco múltiple de alta calidad para una amplia gama de aplicaciones de óxidos complejos ferromagnéticos y películas semiconductoras. Nuestros objetivos se ofrecen en varios niveles de pureza para satisfacer sus requisitos específicos con la pureza mínima del 99.5% hasta ...
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Detalles

Objetivos de arco múltiple de alta calidad

IKS proporciona objetivos de múltiples arcos de alta calidad para una amplia gama de aplicaciones para óxidos complejos ferromagnéticos y películas semiconductoras. Nuestros objetivos se ofrecen en varios niveles de pureza para satisfacer sus requisitos específicos con la pureza mínima de 99.5% hasta 99.99% para elementos puros y aleaciones.

Adoptando tecnologías avanzadas tales como prensado isostático en caliente (HIP), sinterización al vacío y proceso de fusión en vacío, nuestros blancos de arco múltiple se caracterizan por su alta pureza, alta densidad, composición homogénea, tamaño de grano uniforme y alta utilización. Controlamos cada paso (desde las materias primas hasta los productos terminados) para asegurarnos de que solo se envíen los objetivos de alta calidad desde nuestras fábricas.

IKS fabrica todas las formas y tamaños de objetivos multi-arco de alta calidad. Háganos saber el material y las dimensiones que necesita y cumpliremos con su requisito especial.

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Tabla de productos principales:

Material

Símbolo

Relación atómica

Pureza

Densidad relativa

Dimensiones de Stock

Tecnología

Caracteristicas

Cromo

Cr

_____

99.5% ~ 99.95%

> 99%

Dia100xH40mm

Dia95x45mm

Hot Isostático

Presionando (HIP)

Buena resistencia a la oxidación

Tungsteno

W

_____

99.9%

> 99%

Dia100xH40mm

Dia95x45mm

Hot Isostático

Presionando (HIP)

Alta dureza

Titanio

Ti

_____

99.9% ~ 99.99%

> 99%

Dia100xH40mm

Dia95x45mm

Vacío de fusión

Buen desgasteResistencia

Níquel

Ni

_____

99.9% ~ 99.99%

> 99%

Dia100xH40mm

Dia95x45mm

Vacío de fusión

Gran resistencia a la corrosión

Molibdeno

Mes

_____

99.9% ~ 99.99%

> 99%

Dia100xH40mm

Dia95x45mm

Vacío de fusión

Gran resistencia a la corrosión

Silicio

Si

_____

99.99%

> 99%

Dia100xH40mm

Dia95x45mm

Sinterización al vacío

Alta dureza

Plata

Ag

_____

99.9% ~ 99.99%

> 99%

Dia100xH40mm

Dia95x45mm

Vacío de fusión

Buena conductividad eléctrica y térmica

Tántalo

Ejército de reserva

_____

99.9% ~ 99.99%

> 99%

Dia100xH40mm

Dia95x45mm

Vacío de fusión

Alta ductilidad

Cobre

Cu

_____

99.9% ~ 99.99%

> 99%

Dia100xH40mm

Dia95x45mm

Vacío de fusión

Buena Ductilidad, Conductividad Térmica y Resistencia a la Corrosión

Grafito


_____

99.9% ~ 99.99%

> 99%

Dia100xH40mm

Dia95x45mm

Sinterización al vacío

Alta dureza

Aluminio

Alabama

_____

99.9% ~ 99.99%

> 99%

Dia100xH40mm

Dia95x45mm

Vacío de fusión

Buena Ductilidad, Conductividad Térmica y Resistencia a la Corrosión

Silicio-aluminio

SiAl

25/75

30/70

40/60

50/50

99.9% ~ 99.99%

> 99%

Dia100xH40mm

Dia95x45mm

Prensado isostático en caliente (HIP)

Alta ductilidad y buena resistencia al desgaste

Titanio-Aluminio

TiAl

30/70

33/67

40/60

45/55 50/50

60/40

70/30

75/25

80/20

> 99.7% (2N7)

> 99%

Dia100x40 / 95x32mm
Dia63x40 / 65x32mm

Prensado isostático en caliente (HIP)

Alta resistencia mecánica y buena resistencia a la corrosión

Cromo-Aluminio

CrAl

25/75

30/70

40/60

50/50

> 99.7% (2N7)

> 99%

Dia100x40 / 95x32mm

Dia63x40 / 65x32mm

Hot Isostático

Presionando (HIP)

Buena resistencia a la oxidación y resistencia a la corrosión

Titanio-aluminio-silicio

TiAlSi

30/60/10 40/50/10

> 99.7% (2N7)

> 99%

Dia100x40 / 95x32mm

Dia63x40 / 65x32mm

Hot Isostático

Presionando (HIP)

Alta dureza y ductilidad

Cromo-aluminio-silicio

CrAlSi

30/60/10 40/50/10

> 99.7% (2N7)

> 99%

Dia100x40 / 95x32mm

Dia63x40 / 65x32mm

Hot Isostático

Presionando (HIP)

Buena resistencia a la oxidación y resistencia a la corrosión

Más información:

Certificación: ISO9001

Tamaño medio del grano: 30-40 μm (el estándar nacional es 100μm)

Otras especificaciones especiales están disponibles a petición del cliente.

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Análisis de calidad del objetivo de pulverización CrAl

(Tome CrAl 30/70 en% como muestra)

Componente principal (% en peso)

Contenido de impurezas (%)

CrAl

do

norte

O

Fe

Si

S

> 99.7

0.01

0.006

0.17

0.02

0.07

0.002

Cr

Alabama





equilibrar

54.75






Dimensión: Dia 65x40 mm

Densidad real: 3.764 (g / cm 3 )

Densidad teórica:> 99%

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El tamaño de grano promedio de nuestro objetivo de arco múltiple es 30-40 μm, que está muy por debajo del estándar nacional (100 μm).

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Las ventajas de IKS:

● Variedad de materiales que incluyen: plata, titanio, aluminio, silicio, silicio-aluminio, titanio-aluminio-silicio, grafito, etc. para satisfacer sus necesidades.

● La utilización de material extremadamente alta (aproximadamente 80%) garantiza un menor consumo de materias primas y ahorra costos.

● Proporcione una película gruesa y densa con una superficie extremadamente lisa.

● Películas multicapa y películas de proceso múltiple son posibles

● Asegurar la alta eficiencia del proceso de recubrimiento y aumentar el rendimiento de la máquina de recubrimiento.

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Solicitud:

● Tratamiento superficial de herramientas y moldes

● Vidrio arquitectónico y automático

● Hardware y decoración

● Pantalla plana

● Fotovoltaica solar

● Otros campos

Nuestros objetivos de arco catódico son la mejor opción para proporcionar superficies duras con excelente resistencia a la corrosión y resistencia al desgaste para cortar herramientas, punzonar y formar moldes para aumentar el tiempo de servicio, darles mayores velocidades de alimentación, rendimiento de corte y tasas de eliminación de metal fácilmente.

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Consulta

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