Equipo de recubrimiento PVD de baja temperatura

Equipo de recubrimiento PVD de baja temperatura

Deposición de vapor de arco a baja temperatura (LTAVD), sistema de recubrimiento PVD de temperatura de deposición ultra baja
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Detalles

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón iónico multi-arco que tiene varias ventajas tanto de

Recubrimiento de iones y pulverización con magnetrón.


Tecnología:

Media frecuencia + ARC (filtrado)

Objetivo plano + fuente de iones (opcional)


caracteristicas:

El diseño del horno de gran tamaño garantiza un gran rendimiento y una alta eficiencia, y ayuda a ahorrar costos.

Amplia gama de deposición de material.

Sustrato sensible a la temperatura.

Con una buena repetibilidad y capacidad de control del espesor de la película, la capa de recubrimiento es suave, densa y brillante.


Aplicaciones:

sa02


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Consulta

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